专利申请技术交底书如何准备
时间:2023-02-22 14:20:47 439人看过 来源:法律编辑整理

1、发明或者实用新型的名称;

2、要求保护的技术方案所属的技术领域;

3、背景技术:说明与本发明或实用新型有关的技术领域的背景技术内容和与本申请最接近的现有技术。客观指出现有技术所存在的问题和缺点,对现有技术的评价应是客观和公正的,切忌采用诽谤性语言;

4、发明的内容:针对现有技术所存在的问题和缺点,说明本发明或者实用新型想解决的技术问题,及本发明者实用新型为解决技术问题提出的技术方案,并对照现有技术写明发明或者实用新型的有益效果。此外还应详细说明申请人认为实现发明或者实用新型的优选方式;必要时,举例说明;有附图的,结合附图进行说明。对于具体不同技术领域的技术交底书的撰写,请咨询本公司。

一、国家专利怎么申报

国家专利申请流程:

1、专利申请文件的填写和撰写;

2、专利申请的受理;

3、申请费的缴纳方式;

4、申请费缴纳的时间;

5、专利审批程序;

6、对专利申请文件的主动修改和补正;

7、答复专利局的各种通知书;

8、专利申请被视为撤回及其恢复;

9、办理专利权登记手续;

10、办理登记手续应缴纳的费用;

11、专利权的维持;

12、专利权的终止。

二、专利申请注意事项

1、专利申请前置准备:

(1)应进行专利文献检索查新,以判断发明创造是否符合专利三性的基本条件。这时对专利三性的判定仅仅是初步的,检索以尽量减少专利申请的盲目性、增加专利授权的把握性和授权后的法律稳定性。

(2)需要对竞争对手的技术经济发展动态及其专利策略作进一步分析,并检查本申请是否符合本方产品及技术经济的发展战略及专利战略。

(3)做好相关技术保密工作,委托专业专利代理机构代理。

2、专利申请不能过早,发明创造尚未基本完成就过早申请,技术公开后可能产生几种不利后果:

(1)技术内容未充分公开,尚不能实施,被专利局驳回,不能授。

(2)被驳回的未成熟的专利申请可能给他人以启迪。

(3)可能造成专利的保护不严密、不完整,从而为他人提供改进、扩展和申请新专利的机会。

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