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集成电路布图设计权是一项独立的知识产权，是权利持有人对其布图设计进行复制和商业利用的专有权利。布图设计权的主体是指依法能够取得布图设计专有权...
（一）布图设计专有权权属纠纷案件；（二）布图设计专有权转让合同纠纷案件；（三）侵犯布图设计专有权纠纷案件；（四）诉前申请停止侵权、财产保全案...
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包括下列内容： 1、复制权。实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。 2、商业利用权。是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。
所谓集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。上述的集成电路，是指半导休集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或全部互连线路集成在基片中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。
集成电路布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受条例保护。
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