专利侵权行为成立条件是什么？

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• 问专利侵权行为的构成条件是什么
  

  专利侵权行为的构成条件如下： 1、基于他人已经注册成功的专利，实施使用专利等行为； 2、未经专利权人许可或者授权； 3、主观存在过错； 4、损害了专利权人的合合法权益； 5、行为与损害后果之间存在因果关系。

• 问专利侵权行为成立的条件有哪些
  

  专利侵权行为成立的条件如下： 1、存在有效的专利权; 2、发生了法定的侵害行为; 3、所发生的侵害行为具有违法性; 4、侵害行为人以生产经营为目的(广义); 5、行为人未经专利权人许可(包括明示和默示); 6、行为人主观上有过错(包括故意和过失); 7、行为人实施的技术、设计方案落入专利保护范围。

• 问专利侵权行为构成要件是什么？
  

  构成专利侵权行为的要件包括两个方面：形式要件和实质要件。 一、形式要件 (1)实施行为所涉及的是一项有效的中国专利; (2)实施行为必须是未经专利权人许可或者授权的; (3)实施行为必须是以生产经营为目的。对于行为人是否具有主观故意并不是形式要件。 二、实质要件 (1)行为人所涉及的技术特征与专利的技术特征全部相同，则构成侵权; (2)行为人所涉及的技术特征多于专利的技术特征，也构成侵权; (3)行为人所涉及的技术特征与专利的技术特征有相同的，有相异的，但是，相异的技术特征与专利的技术特征是等效的，仍构成侵权;否则，不构成侵权。 这里技术特征等效，是指所属技术领域的普通技术人员能够推断出某两种技术特征彼此替换后，所产生的效果相同。

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