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集成电路布图设计专有权的内容包括全部或部分复制布图设计具有独创性的部分;将受保护的布图设计以及含有该布图设计的集成电路和含有该集成电路的物品...
布图设计创作者分为以下四类。自然人。由自然人创作的布图设计,该自然人是创作者。法人或其他组织。由法人或其他组织主持,依据法人或者其他组织的意...
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中国的单位、个人或者其他组织创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。对于外国人,就要区别对待:外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权;未在中国首先投入利用的布图设计,必须在中国参加WTO之后,才能申请。港、XX、台地区的申请,按国内申请处理,10月1日可申请,但法人必须委托涉外代理机构办理。根据条例规定,布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起二年内,仍可向国家知识产权局提出登记申请。我国根据TRIPS协议,将这一专有权追溯到1999年10月1日。国家知识产权局对布图设计的权利人采用推定原则,即认为凡是到国家知识产权局来申请的,都视其是有权利的人。若出现问题,应通过司法程序解决。
所谓集成电路布图设计,是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。上述的集成电路,是指半导休集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或全部互连线路集成在基片中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。
布图设计登记申请经初步审查,未发现驳回理由的,由国务院知识产权行政部门予以登记,发给登记证明文件,并予以公告。布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。
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