哪些条件构成专利侵权

2020-01-14 162人已浏览

张丽丽律师专职律师

北京市京师律师事务所

擅长：婚姻家庭、公司法、债权债务

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专业分析

构成专利侵权行为的要件包括两个方面：形式条件和实质条件。一、形式要件。 (1)实施行为所涉及的是一项有效的中国专利; (2)实施行为必须是未经专利权人许可或者授权的; (3)实施行为必须是以生产经营为目的。二、实质要件，也就是技术条件。

法律依据

《中华人民共和国知识产权法》第四十五条有下列侵权行为的，应当根据情况，承担停止侵害、消除影响、公开赔礼道歉、赔偿损失等民事责任：（一）未经著作权人许可，发表其作品的；（二）未经合作作者许可，将与他人合作创作的作品当作自己单独创作的作品发表的；（三）没有参加创作，为谋取个人名利，在他人作品上署名的；（四）歪曲、篡改他人作品的；（五）未经著作权人许可，以表演、播放、展览、发行、摄制电影、电视、录像或者改编、翻译、注释、编辑等方式使用作品的，本法另有规定的除外；（六）使用他人作品，未按照规定支付报酬的；（七）未经表演者许可，从现场直播其表演的；（八）其他侵犯著作权以及与著作权有关的权益的行为。第四十六条有下列侵权行为的，应当根据情况，承担停止侵害、消除影响、公开赔礼道歉、赔偿损失等民事责任，并可以由著作权行政管理部门给予没收非法所得、罚款等行政处罚：（一）剽窃、抄袭他人作品的；（二）未经著作权人许可，以营利为目的，复制发行其作品的；（三）出版他人享有专有出版权的图书的；（四）未经表演者许可，对其表演制作录音录像出版的；（五）未经录音录像制作者许可，复制发行其制作的录音录像的；（六）未经广播电台、电视台许可，复制发行其制作的广播、电视节目的；（七）制作、出售假冒他人署名的美术作品的。

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